棱鏡耦合測試儀的特性及應用領域介紹

　　

　　對于厚膜折射率的測量，單色光被直接照射到被測樣品上，這樣，從薄膜表面反射回來的光的干涉小值就會發生變化，光的入射角也會發生變化。在這種技術中，薄膜厚度是由兩個干涉小值的角的位置計算出來的。對于這種測量條件——薄膜具有兩個或兩個以上的干擾小值——薄膜厚度必須大于低脫粒率，通常為2微米。樣品夾持機采用真空從背面支撐樣品，安裝方便簡單。可測量薄膜/基底的類型，硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介質、聚合物或薄膜。可測量的薄膜/襯底類型：氧化物、氮化物、介電材料、聚合物、或硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的薄膜。

　　

　　一、棱鏡耦合測試儀的特性：

　　1、薄膜及波導折射率/厚度測量，包括梯度折射率的測量；

　　2、體材料折射率的測量；

　　3、薄膜及體材料的雙折射測量；

　　4、移動光纖測試波導損耗；

　　5、雙層薄膜測量（甚至在波長1310nm或1550nm處有幾個~?厚度）；

　　6、不相關的薄膜/基板組合；

　　7、無需預先知識，操作簡單；

　　8、批量或基板材料的準確測量；

　　

　　二、主要應用領域：

　　1、光波導器件；

　　2、激光晶體材料；

　　3、聚合物材料；

　　4、顯示技術材料；

　　5、光/磁存儲材料；

　　6、光學薄膜。